解説
絵はがき。内容：「信頼して下さいますこと、尚さら出来ることは学びを強めます。」「採用が合わず首を長くして待っています。」「もう少したてば採用になると確信していますが、もし不採用になった時は、本人を責めずはげまして下さい。」と綴っている。年代は満州から送られたことによる。陸軍需品本廠。 使用状況：使用 キャプション：陸軍美術協会主催第二回聖戦美術展覧会出品作品画 待機 向井潤吉筆
収録されているデータベース
ARC研究資源ポータルデータベース（マルチメディア対応）
ARC研究資源ポータルデータベース（マルチメディア対応）は、立命館大学アート・リサーチセンターの所蔵品･寄託品だけでなく、他機関の所蔵品を含めて、さまざまな媒体のデジタル化された研究資源が登録されたデータベースです。2次元作品では、書簡、古文書、書籍装丁、染色型紙など、3次元作品では、装束・衣装、彫刻（能面）、根付など、さらに動画や音声作品なども登録されています。
所蔵・所在
つなぎ役機関
立命館大学アート・リサーチセンター
1998年に設立したアート・リサーチセンター（ARC）は、私たち人類が持つ文化を後世に伝達するために、芸術、芸能、技術、技能を中心とした有形・無形の人間文化の所産を、歴史的、社会的観点から研究・分析し、記録・整理・保存・発信することを目的としています。ARCが有する日本文化資源の膨大なデータベースの利用を国内外の共同研究者に開放するとともに、これまでに蓄積してきたデジタル・アーカイブ技術やデータベース管理技術を研究プロジェクト活動の基盤として提供し、情報アーカイブ・知識循環型共同研究を推進しています。こうした取組を通して、デジタル・ヒューマニティーズ分野の“世界水準の研究拠点形成”を目指しています。
最終更新日
202604/12/31